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河南三特STGC-60-12CVD真空管式電阻爐 CVD管式爐，主要為高等院校、科研院所、工廠企業(yè)等行業(yè)實驗室提供高溫熱處理環(huán)境，可應用于金屬材料、石墨材料、鋰電材料、晶體材料等新材料領域。

【產品名稱】1400℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm 【額定溫度】1400℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。

【產品名稱】1200℃-CVD梯度管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm+300mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。

【產品名稱】1700℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。

【產品名稱】1200℃-PECVD管式爐系統(tǒng) 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區(qū)】300mm/440mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】PECVD系統(tǒng)（等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成。